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全自动双腔半导体快速退火炉RTP
<p><span style="text-indent: 30px; text-wrap: wrap;">RTP-DTS-8全自动双腔快速退火炉是在保护气氛下的全自动立式快速退火系统,以红外可见光加热单片 Wafer或样品,工艺时间短,控温精度高,适用6寸8寸片快速热退火制程。</span></p>
桌面型快速退火炉RTP,快速热处理退火炉
<p><span style="text-indent: 30px; text-wrap: wrap;">RTP-Table-6桌面型快速退火炉是在保护气氛下的桌面快速退火系统,以红外卤素灯管加热,精准控制升温,保证良好的重现性与温度均匀性,适用6寸快速退火制程。</span></p>
半自动半导体快速退火炉RTP
<p><span style="font-family: ">RTP-SA-12半自动快速退火炉是在保护气下的半自动立式快速退火系统,以红外可见光加热单片 Wafer 或样品,工艺时间短,控温精度高,适用 4-12 英寸片。</span></p>
在线片式真空等离子清洗机PT-RF-A-12
<p>在线片式真空等离子清洗机主要用于半导体行业引线框架表面清洗产品表面污染物,提高表面活性,增强附着性能。</p>
ICP干法等离子去胶机ST-6100
<p>反应速度快,反应时间短<br/></p><p><br/></p>
半导体晶圆筒式去胶机ST-3300
<p>处理过程温度低,能在高气压下维持等离子体</p>
真空等离子镀膜机
USC显示屏干式超声波除尘
<p>3μm尘粒97%的清除率,6μm尘粒98%的清除率<br/></p><p><br/></p>
SPA-2600大气等离子清洗机
<p>适用于处理各种小面积、处理轨迹精度高、边角部分多材料的表面清洗活化,搭配射流直喷枪头<br/></p><p><br/></p>
SPA-2800大气等离子清洗机
<p>适用于处理各种大面积、形状较复杂材料的表面清洗活化,搭配旋转枪头<br/></p><p><br/></p>
SPA-3200大气等离子清洗机
<p>搭配高效超低温枪头,处理温度低于50度,等离子处理效果更明显<br/></p><p><br/></p>
SPA-3600大气等离子清洗机
<p>搭载进口品牌ARM芯片,拥有等离子功率智能判断功能<br/></p><p><br/></p>
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